半導體行業(yè) | 測量如何“見微知著”?
更新時間:2026-06-03 點擊次數(shù):191
在AI引發(fā)的結構性失衡,芯片需求激增的當下,半導體產業(yè)正加速邁向微型化與集成化,制造工藝對精度的要求也達到了高度。微米級的偏差,便可能影響一顆芯片的最終性能與良率。
面對日趨復雜精密的生產需求,測量環(huán)節(jié)如何實現(xiàn)“快、準、穩(wěn)"?精析為您帶來高效的非接觸測量方案,助力提升效率、保障品質。
在對倒裝芯片的品質進行評價時,多以測量各點位相較于以主板中心為原點的X、Y方向偏差(即坐標差)為主。
主要課題:
① 測點密集,芯片表面凸點繁多,難以適應規(guī)模化生產
② 表面不平,頻繁聚焦拖慢測量節(jié)奏,測量效率低下
③ 工件易變形,芯片薄且軟,接觸測量易導致數(shù)據(jù)失真
通過使用三豐影像測量儀QV HYPER系列,我們可以有效解決上述難題。
QV HYPER 系列
作為一款配備高分辨力、高精度標尺的影像測量儀,QV HYPER系列精度可達E UX/E UY,MPE=(0.8+2L/1000)μm,在不破壞工件表面的情況下實現(xiàn)高精度非接觸式測量。
TAF激光自動追蹤功能,可實現(xiàn)通過物鏡的激光照射自動對焦。根據(jù)工件形狀自動追蹤焦點,可節(jié)省對焦作業(yè),對于芯片這類非平整表面(且高度差變化不大)進行掃描時,無需停頓式對焦,從而大大提高了測量效率。
通過XY本體驅動與頻閃照明同步,在不關停工作臺的狀態(tài)下進行無停頓影像測量,大大縮短測量時間,提升測量效率,讓批量測量成為可能。
與此同時,不僅是晶圓、PCB板等半導體部件的產能在擴張,以蝕刻為代表的半導體制造設備和裝置的需求也在進一步增加。作為具有代表性的半導體制蝕刻裝置部件,噴淋頭的測量需求也受到了業(yè)界的高度關注。
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噴淋頭表面分布著密集的氣體供給孔。每個孔的尺寸會直接影響到刻蝕機上所產生的等離子體均勻性。其主要測量項目是表面密集分布的孔的直徑、基于基準的坐標位置及平面度等。